公告本中心研發成果，歡迎業者申請技術移轉。技術移轉對象應符合下列各項規定為原則：
一、以公平、公開及有償方式為之。
二、以公立學校、公立研究機關 (構)、公營事業、法人或團體為對象。
2025-01-03
用以提供機器學習判讀一生物樣品的取樣方法與裝置
光學檢測、光學元件製造、醫療設備整合、半導體設備整合技術
本技術系一種用於機器學習判讀生物樣品的取像裝置，藉由擷取多角度的大量影像資訊，擴大深度學習的影像數據量，使其能克服「複雜背景」與「變動條件」的樣品環境，可廣泛應用於生物樣品(細胞、檢體)與半導體元件3D封裝檢測。其核心技術在於多角度光學投光結合精準的光源時序控制，透過控制元件依時序指令依序啟動不同位置與波長的光源，以多角度、分層次照射樣品，並即時擷取多角度的影像資訊，為機器學習模型提供完整而豐富的數據基礎。與傳統2D檢測技術相比，本技術結合多角度光源配置、影像擷取與光源時序調控的精確操控，來建立「大量的影像以擴增機器學習與AI辨識之素材」，藉由深度學習訓練，能在複雜背景(如光線不穩定、反射干擾或雜光環境)中，精準分離樣品影像與背景雜訊。透過動態適應性與光場自由調控，系統可針對動態樣品或環境條件變動進行自動調整，確保穩定的影像品質。此外，此設計還納入影像機器學習模型的建構與優化，為自動化、高精準度的樣品檢測提供關鍵技術。本技術具備以下顯著優勢： 1. 多光譜與多視角整合：提供不同角度與波長的影像資訊，適用於檢測細微結構與複雜樣品。 2. 抗背景干擾能力強：透過精準時序控制與動態光源補償，有效應對反射、雜訊或光線波動的影響。 3. 動態條件下的高穩定性：即使樣品位置或形態改變，系統仍能自動調變光源角度與強度，有利於動態環境下的即時檢測。 4. 非侵入式檢測：無需直接接觸樣品，適用於生物樣品的完整性保護與3D封裝結構檢測。 除應用於生物樣品與半導體元件檢測外，本技術亦可廣泛延伸至智慧化自動光學檢測、光場動態調控、醫學影像分析、食品安全檢測及環境監測等領域，顯現出高度的跨領域技術價值與產業潛力。結合高解析影像、多光譜數據資訊與機器學習模型的強大運算能力，此技術不僅提升檢測效率與產品良率，亦為智慧製造與自動化檢測技術提供全新解決方案。
1. 產業類別：光學系統設計、光學檢測與製作，半導體設備製造業者 2. 專門技術：光學設計、半導體設備設計製作、雷射光學系統設計製作、光學元件設計製作與驗證技術 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：2-5人(含)以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
李靜宜
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蔡智華
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2024-09-27
高均勻度陣列二極體紫外光源裝置
生醫材料、生物科技檢測技術
一種高均勻度陣列二極體紫外光源裝置，係利用一組準直照明鏡組，使UVLED陣列光源經過鏡組，可使得光源分佈能夠均勻，專利中的光學設計方式，整合出一組高均勻度優良的光源系統，以此用來做為細胞成長特徵分析用的參考光源。
1. 產業類別：生物科技領域，生科設備製造業，材料測試或驗證業者 2. 專門技術：生物科技相關設備研發與銷售 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：2人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2024-08-08
自適應姿態調整之間隙補償機構
精密機械、精密光學系統
本技術為一自適應姿態調整之間隙補償機構，在精密機械組裝與精密光學系統組裝時常會因為結合介面之共面度不好，產生過度拘束與應力集中等問題。本發明之機構乃透過曲面華司與結構膠的填補，利用曲面華司達到自適應姿態調整、再透過結構膠進行間隙填補，達到降低應力與結構補強的優點，對於高精密中大口徑光學元件之組裝可降低應力傳遞，確保組裝後之系統光學性能符合光學設計要求，對於光學系統之次組件組裝可達到姿態調整又兼具結構穩定性。
1. 產業類別：光學儀器設備開發、光學儀器維修與精密機械產業 2. 專門技術：光學儀器組裝與調校、精密機械設計、精密光學系統設計與組裝等技術 3. 應有機具設備：無特殊規定 4. 應有研究或技術人員：是，至少一人 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2024-03-13
光纖旋轉耦合裝置
光學檢測、光學元件製造、半導體設備整合技術
本技術系一種用於圖像化曝光製程之光源耦合與投影鏡頭技術，主要應用於加工製程設備，領域可包含半導體晶圓、封裝IC載板、類載板與電路板。技術上系透過可多維度微調之光纖旋轉耦合方法與光學調制元件來進行光源的耦合、勻化、調制與整型，並將尺度縮減，有利高效率地導入至光罩端或反射投影陣列上。所產生之立體光場將與投影鏡頭間實現數值孔徑之精準匹配，無論是光罩定形圖案或是圖像調控產生自由圖形，皆可透過對應設計之投影鏡頭來對樣品進行指定性曝光。其技術上包含不同倍率、數值孔徑、視野與解析力之設計方案與實製Know-how訣竅，範圍介定於光學與光機設計、容差分析(熱與應力)、組裝方案(含輔具)與系統波前檢測技巧。本技術系為關鍵半導體精密光學的核心技術，迥異於傳統消費光學技術，主要為建構一種高傳輸效率與縮減尺寸的光源耦合與傳遞介面，以及智慧型光場調控與曝光技術，可應用於半導體曝光製程技術，提升製程光源使用效率，藉此有效降低設備能源消耗。本技術使用於曝光製程外，亦可廣泛通用於自動光學檢測、光訊號轉接與長程低損傳遞、智慧化投光、光場自由調制與各式樣應用，具備高度的技術應用價值。
1. 產業類別：光學系統設計、光學檢測與製作，半導體設備製造業者 2. 專門技術：光學設計、半導體設備設計製作、光學元件設計製作與驗證技術 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：2-5人(含)以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2023-10-06
搭載於顯微鏡系統之活細胞觀察系統製作
生命科學儀器設備
本技術為可搭載於顯微鏡系統的活細胞觀察系統製作技術，在傳統顯微鏡上，提供細胞可存活的溫度條件，配合外接二氧化碳氣體，保持細胞活性，因而延長觀察細胞活動的實驗時間。 本系統主要由主機、加熱盤上下盤所組成，使用時加熱盤放置於顯微鏡載物台上，透過毛細管從外部輸送二氧化碳等氣體或實驗藥物進入盤內。
1. 產業類別：實驗器材製造業、生命科學實驗器材販售業 2. 專門技術：電子電路設計、機構設計 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：具備電子電路設計與機構設計能力之人員。 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2023-09-12
一種用於生醫材料之微生物屏障檢測技術
生醫材料、微生物屏障、塗層檢測技術
本技術為一種仿生孔洞模型，模擬人體生物屏障系統生理條件，將待測生醫材料塗層塗佈於仿生孔洞模型內層，加入適當濃度之微生物，透過隔間腔室與待測生醫材料，依據微生物侵入至外腔之濃度變化，檢測評估生醫材料之微生物屏障效力。該模型技術可模擬人體生理條件，並提供一個兼具一致性與可重複性之檢測方法。
1. 產業類別：生醫領域，醫療器材製造業，醫療器材測試或驗證業者 2. 專門技術：生醫材料開發設計、生物技術設計、微結構設計、醫材測試驗證技術 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：3-5人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2023-09-01
外科手術攝影系統(SURGICAL IMAGE PICKUP SYSTEM) 中華民國發明專利: I743473號，美國發明專利:：US 10,786,326 B1 以上專利為同一授權案，不開放個別申請。
影像控制技術、光學成像技術、同軸共視野技術
結合醫療用同軸外科手術攝影系統，經由調整機構與光學聚焦合成鏡組可達成頭燈光源與光學成像鏡組同軸，達成影像紀錄與照光區域共視野之效果，系統之自動對焦攝影裝置及照明光源系統均可直接通過所設計光學聚焦合成鏡組及可調式光學反射鏡；可以觀察並記錄手術區域，直接取得影像並即時在系統儲存並分析，成像自動對焦改變攝影區域或大小時自動調校標示區域的機制與方法，攝影裝置及投燈系統及目鏡放大鏡組同視野，系統同時具備調整系統光源角度及自動對焦功能，清晰觀測同一視野範圍(手術範圍)，並可以進一步術後分析教學
1. 產業類別：生醫領域，醫療器材製造業，光學儀器製造業，光電儀器製造業，精密儀器零售業 2. 專門技術：光學設計、電子電路設計、光電儀器設計、電子電路設計 3. 應有機具設備： 無 4. 應有研究或技術人員：電控工程師、光學元件與系統組裝人員 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2023-08-22
封閉式流道鍍膜技術
半導體製程、電漿輔助原子層沉積技術
高覆蓋性原子層沉積技術 封閉式流道反應槽系統及其製造觸媒或支撐材料的方法
1. 產業類別：電力機械器材製造修配業、一般儀器製造業、自動控制設備工程業、表面處理業、電線及電纜製造業、電子零組件製造業。 2. 專門技術：航太等級線束客製化加工組裝、半導體PVD、CVD製程相關設備、機電整合設計等設備製造、機電整合與半導體製程相關技術能力。 3. 應有機具設備：半導體製程相關設備。 4. 應有研究或技術人員：5人以上。 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
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2023-08-10
在真空環境中叢集式即時線上製程暨分析的一種傳輸系統
半導體製程
本技術應用於叢集式即時線上製程暨分析技術
1. 產業類別：半導體製程 2. 專門技術：具備半導體製程相關技術能力 3. 應有機具設備：半導體製程相關設備 4. 應有研究或技術人員：5-10人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
李靜宜
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2023-04-27
多光譜光源智慧調控技術技轉
光電工程
本技術應用於光譜調控與皮膚及淺層組織特徵分析技術
1. 產業類別：光電儀器製造業/精密儀器零售業/電子產品開發業 2. 專門技術：具備光電工程/電子儀器開發與研究相關技術能力 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：光學/電子工程師與系統整合人員 5. 無片面毀約不良記錄者
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2022-10-05
叢集式高能濺鍍硬膜技術
光電/材料製程
本技術應用於叢集式低溫鍍製硬膜技術
1. 產業類別：光電/材料製程 2. 專門技術：具備光電/材料製程相關技術能力 3. 應有機具設備：光電/材料製程相關設備 4. 應有研究或技術人員：5-10人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請技術移轉廠商應檢附公司相關證明文件影本，填妥本院「廠商開發計畫書」與「研發成果授權申請表」，資料請洽聯絡窗口。公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經本中心同意後，免繳或減繳。
李靜宜
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2022-04-21
影像式生理特徵檢測與分析技術
光電儀器設計
結合多波長光源模組與光學控制技術，光源方式進行環形錯位穿插式排列，並以選擇性開啟之方式，調變多光譜光源投射於待測物體表面，並接收待測物之反射光，以反射光影像之特徵資訊進行血氧濃度、血糖濃度等生理特徵分析，達到生理特徵量測可視化之目標。
1.產業類別：光學儀器製造業、機械設備製造業、醫療器材製造業 2.專門技術：光電儀器設計、電子電路設計 3.應有機具設備：無 4.應有研究或技術人員：電子工程師、電子元件與系統組裝人員
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
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2022-01-06
電腦自動十字繡與針法演算技術
電腦刺繡演算
本技術係電腦刺繡針法演算方法，其中包含電腦自動相片繡之十字繡演算技術與螺旋繡、滾邊繡等2種填繡針法演算技術。 自動相片繡之十字繡演算技術能在使用者輸入相片圖像後，自動產生該相片之十字繡針跡檔，以供電腦刺繡機繡出。演算過程可分為圖像降色、繡線選色、刺繡佈線、刺繡路徑與刺繡檔生成等步驟，其中刺繡路徑更為本演算技術之重點。 螺旋繡為一種填繡針法，在封閉的向量圖區塊中從邊界螺旋逐次填滿整個區域，形成螺旋狀紋理。 滾邊繡亦為一種填繡針法，將封閉的向量圖型邊界以特定方向滾動並逐次變形，以產生特殊紋理的填繡。
1.產業類別：縫紉機產業、縫紉機軟體開發產業 2.專門技術：軟體開發、電腦刺繡機操作 3.應有機具設備：無 4.應有研究或技術人員：理工與美術相關背景研發人員
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
吳文弘
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2021-11-05
實驗小鼠眼底拍攝技術
動物眼底攝影
本技術係一種針對動物實驗用小鼠的眼底拍攝方法，其中包含打光方法與對焦方法。眼底拍攝的系統硬體分為光學鏡頭與機身，鏡頭前端為針孔結構。 拍攝物位於眼球底部，打光光路需穿過瞳孔才能提供有效的照明，因此LED光源布在鏡頭前端近針孔的外側。 小鼠眼球構造下，角膜與水晶體的曲率大且存在個體差異，若採用變焦型鏡頭複雜性太高，在使用定焦鏡頭的條件下，本技術採光學鏡片固定、調整光學感測器位置的方式進行對焦，彌補生物體所造成的成像誤差。
1. 產業類別：光學儀器製造業、生醫儀器製造業 2. 專門技術：光學設計、電子電路設計 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：理工背景系統組裝人員 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
莊文寧
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2021-08-02
導電電極鍍製與改質應用於光電元件
光電/材料製程
本技術應用於低溫製作導電電極鍍製與改質應用於光電元件
1.產業類別：光電/材料製程 2.專門技術：具備光電/材料製程相關技術能力 3.應有機具設備：光電/材料製程相關設備 4.應有研究或技術人員：5-10人以上 5.無片面毀約不良記錄者
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
廖博輝
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2021-03-04
多軸向輪廓成型技術運用於硬脆材料
半導體材料成型、材料切割、硬脆材料輪廓成型、雷射切割
結合雷射光操控技術，將雷射光束經整形與高速掃描振鏡調控雷射點匯聚至欲輪廓成型試片上，進行多維度硬脆材料樣品切割成型。針對微小區域進行輪廓成型，可選擇雙軸向高速掃描振鏡輪廓，並搭配擴束鏡倍率變換，藉以完成不同厚度材料輪廓成型。於大面積輪廓成型時，可搭配進給移動平台完成二維平面成型。平台可傾斜一角度完成4D輪廓成型;入射光軸可傾斜一角度，加上平台傾斜可完成5D輪廓成型。其輪廓成型路徑(以圓形輪廓為例)可為非圓形路徑之數值多項式(numerical polynomial)函數，藉以增加成型輪廓速度。
1. 產業類別：光學儀器製造業、光電儀器製造業、精密儀器零售業、機械設備製造業 2. 專門技術：光電儀器設計、電子電路設計、機構設計 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：光學工程師、電子工程師與系統整合人員 5. 無片面毀約不良記錄者
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
蕭文澤
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2020-12-10
4吋批次式電漿輔助原子層沉積技術
半導體製程、電漿輔助原子層沉積技術
前驅物傳遞系統、整合電漿之均勻化噴氣模組、批次式原子層沉積腔體與閥門開關控制時序設計
1. 產業類別： 真空設備製造業 2. 專門技術： PVD、CVD真空腔體設計 3. 應有機具設備： 無 4. 應有研究或技術人員： 機構工程師、製程工程師、電子元件與系統組裝人員 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
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卓文浩
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2020-11-05
真空技術應用於捲對捲鍍膜
光電/材料製程
本技術應用於低溫製作透明導電膜
1. 產業類別：光電/材料製程 2. 專門技術：具備光電/材料製程相關技術能力 3. 應有機具設備：光電/材料製程相關設備 4. 應有研究或技術人員：5-10人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
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2020-10-28
自動對焦裝置與方法 (AUTOMATIC FOCUS DEVICE AND METHOD THEREOF)
顯微鏡 G02B-021/00(2006.01)；包含反射鏡G02B-021/04(2006.01)； 結構上與顯微鏡組合的微型控制器G02B-021/32(2006.01)
本發明係有關於一種自動對焦的裝置與方法(中華名國專利I369508)，尤指用於顯微光學觀測裝置的自動對焦裝置與方法。本發明提供一種自動對焦的裝置與方法，用於在顯微觀測時能快速準確的自動對準焦距，其係利用一雷射光經過待測物的反射，以及經過透鏡組的折射後，所產生的光斑變化，計算該變化的形狀比例以得到一失焦信號，在資料庫中比對得到該失焦信號所對應的失焦距離，根據該失焦距離調整物鏡與待測物之間的相對距離至正焦點。
1. 產業類別：光學儀器製造業、光學檢測儀器製造業 2. 專門技術：光電儀器設計、電子電路設計 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員：理工背景系統組裝人員 5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
洪敏偉
03-5779911#326
niiat@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2020-05-05
三維封裝檢測用多焦面同步擷取及整合技術
半導體曝光、三維封裝、光學控制技術、多波長焦深控制
結合多波長光源模組與光學控制技術，以等光源方式進行圓心環形式排列，並以選擇性開啟之方式，透過光學控制模組中之拋物面與雙曲面光學元件改變光現之光路，並集中於物體表面，由此方式可進行三維結構之深度偵測與表面形貌檢測，並用來進行三維結構製程輔助技術，達到三維封裝多焦深調控之目標。
1. 產業業別：光學儀器製造業、光電儀器製造業、精密儀器零售業
2. 專門技術：光電儀器設計、電子電路設計
3. 應有機具設備：無
4. 應有研究或技術人員： 電子工程師、電子元件與系統組裝人員
5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向本中心申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
三、 公司實施能力佐證文件。
蔡心怡
03-5779911#634
kellytsai@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2019-11-06
具有透明導電抗反射膜層的太陽電池
光學工程/材料製程
本技術應用於具導電及抗反射膜層之太陽電池
1. 產業類別： 光電半導體 2. 專門技術： 具備薄膜製程相關技術能力 3. 應有機具設備： 光電半導體技術相關設備 4. 應有研究或技術人員： 5人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
陳宏彬
03-5779911#644
chbin@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2019-11-06
高能脈衝磁控濺鍍系統鍍製耐磨耗導電薄膜
半導體/材料製程
本技術應用於低溫製作耐磨耗導電薄膜
1. 產業類別： 半導體 2. 專門技術： 具備半導體相關技術能力 3. 應有機具設備： 半導體技術相關設備 4. 應有研究或技術人員： 10人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
廖博輝
03-5779911#589
bohuei@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2019-06-14
低溫ALD製作奈米元件缺陷分析所需薄膜製程
半導體/材料製程
本技術應用於低溫製作奈米元件缺陷分析所需薄膜
1. 產業業別：半導體 2. 專門技術：具備半導體相關技術能力 3. 應有機具設備：半導體技術相關設備 4. 應有研究或技術人員： 10人以上 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
陳建維
03-5779911#614
1509777@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2019-04-24
高亮度多光譜智慧光照系統開發技術
LED、多光譜照明、智慧光源
針對高亮度且包含多波長之光源系統進行開發，同時整合智慧調控技術與照明提醒、照射次數記錄等功能，完成一應用於臨床場域，可進行光照治療之多光譜智慧光照系統。
1. 產業業別：光學儀器製造業、光電儀器製造業、電器產品製造業 2. 專門技術：光電儀器設計、電子電路設計 3. 應有機具設備：無 4. 應有研究或技術人員： 電子工程師、電子元件與系統組裝人員 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
蔡心怡
03-5779911#634
kellytsai@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2018-05-17
離線式鋰電池驅動之智慧閥門操作器應用技術
電子電路應用
藉由鋰電池高密度儲能特性，使一般電力供應的閥門操作器，在異常斷電狀態下，仍可做動至管路安全狀態。透過長效型電池充電模式與電流分流線路設計，實現鋰電池於離線狀態下驅動閥門操作器之應用技術。
1. 產業業別：自動化元件、流體控制元件相關產業。 2. 基礎技術：技術人員需具備電子電機背景，瞭解電壓、電流、功率等電氣特性觀念，具備以上兩種背景，才能進行本技術軟硬體訊號紀錄與功能除錯。 3. 應有之機具設備：廠商需自備量測設備如三用電表、直流電源供應器、數位式示波器。 4. 應有技術人員： 2人(含)以上。 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
莊文寧
03-5779911#573
wnchuang@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2017-11-08
客製表面結構圖紋技術報告
光學元件
藉由表面結構圖紋，於複合介質環境中，實現多光點之光學資訊。
1. 產業業別：形貌檢測、半導體相關產業。 2. 專門技術：形貌檢測系統設計、光學成像系統整合。 3. 應有之機具設備：有形特徵檢測記錄相關硬體。 4. 應有之研究或技術人員人數： 2人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
施至柔
03-5779911#618
sze@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2017-08-10
雙電子槍共蒸鍍複合式氧化物保護膜之鍍膜技術
半導體元件
藉由雙電子槍系統，於真空與中低溫之複合環境中，實現雙電子槍共蒸鍍氧化物保護膜之鍍膜技術。
1. 產業業別：半導體元件相關產業。 2. 專門技術：於室溫與100度熱處理後能維持氧化物保護膜之弱導電特性。 3. 應有之機具設備：雙電子槍系統。 4. 應有之研究或技術人員人數： 2人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
邱柏凱
03-5779911#645
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李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2017-04-19
活體生物病徵檢測用之多波域光學成像技術
光電系統
藉由多波域之光源照明設計，於複合介質環境中，實現活體生物病徵之多層次資訊擷取。
1. 產業業別：生物檢測、生技相關產業。 2. 專門技術：生物實驗系統設計、光學成像系統整合。 3. 應有之機具設備：生物特徵檢測記錄相關硬體。 4. 應有之研究或技術人員人數： 2人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
洪敏偉
03-5779911#326
niiat@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2017-02-15
曝光機用廣波域特定波長衰減片製作技術
半導體、光學元件製程
調整曝光機用特定波長能量，用以改善曝光機光源能量穩定性，提昇現有微機電微影製程設備之性能。
1. 產業業別：半導體或曝光機設備製造。 2. 專門技術：具備曝光機設備製造維修相關技術能力。 3. 應有之機具設備：半導體技術相關設備。 4. 應有之研究或技術人員人數： 10人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
邱柏凱
03-5779911#645
pokay@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2017-02-15
光學式檢測儀應用於尿液自由基之檢測技術與方法
醫療保健
本技術應用於尿液自由基之檢測，包含檢測尿液自由基之技術參數及其檢測操作方式。
1. 產業業別：醫療保健。 2. 專門技術：無。 3. 應有之機具設備：無。 4. 應有之研究或技術人員人數： 2人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
王俊勝
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李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2016-05-05
液態前驅物傳輸方式
半導體、材料製程
本技術應用於ALD系統中前驅物注入腔體管路設計，包含pulse、purge及管路清理等閥門動作。
1. 產業業別：半導體。 2. 專門技術：具備半導體相關技術能力。 3. 應有之機具設備：半導體技術相關設備。 4. 應有之研究或技術人員人數： 10人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
卓文浩
03-5779911#641
kesikar@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2016-05-05
電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置
(專利號：中華民國新型專利M387707)
(專利號：中華民國新型專利 M387707)
半導體、材料製程
本創作係有關於一種電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置，其包含一噴射本體；一第一遮擋件， 其設於噴射本體下方且環繞形成環狀，其上分佈有複數個間隔之穿孔；一第二遮擋件，其環繞形成環 狀且設於第一遮擋件之下方，且第二遮擋件上分佈有複數個間隔之噴孔；及一動力旋轉裝置，可令該 第一遮擋件旋轉，進而讓穿孔與噴孔間歇性呈現相互對齊、交錯，而本創作透過簡單的機構作動配合 便可達到快速、高頻率開/關感應耦合電漿之噴射，且旋轉作動模式中，組件間不會產生相互的磨擦。
1. 產業業別：半導體。 2. 專門技術：具備半導體相關技術能力。 3. 應有之機具設備：半導體技術相關設備。 4. 應有之研究或技術人員人數： 10人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
卓文浩
03-5779911#641
kesikar@niar.org.tw
李靜宜
03-5779911#532
gigilee@niar.org.tw
2016-05-05
封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法
(專利號：中華民國發明專利I498450)
(專利號：中華民國發明專利 I498450)
半導體、材料製程
本發明提供一種封閉式流道反應槽系統，包含反應槽主體、前封蓋及後封蓋。本發明提供一種使用封 閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法，其步驟包含：先將觸媒前驅物或支撐材料前驅物， 由該進口端注入該反應槽主體的各該封閉式流道內。再將惰性氣體經由該進口端注入，流經該等封閉 式流道，並由該出口端流出，以稀釋或移除多餘之該前驅物。最後，於該反應槽主體的該等封閉式流 道內進行沉積，形成觸媒或支撐材料。
1. 產業業別：半導體。 2. 專門技術：具備半導體相關技術能力。 3. 應有之機具設備：半導體技術相關設備。 4. 應有之研究或技術人員人數： 10人 5. 無片面毀約不良記錄者。
有意願之廠商請填妥本中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」，並檢附下列文件影本，一式七份，以掛號方式郵寄至本中心統一窗口，作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書，並檢附公司相關證明文件影本，向各單位申請。其公司證明文件應包括：
一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項（二）、（三）款之文件，新設立廠商得經各單位同意後，免繳或減繳。
卓文浩
03-5779911#641
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李靜宜
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